苯是工业上常用的化工原料,可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G (部分反应条件略去),流程如下所示,请回答下列问题:
(1)C的化学名称是____________,B中的官能团名称是____________。
(2)E分子中最多有____________个原子共平面;G的结构简式为____________;
(3)C生成D的反应类型为____________。
(4)A生成E的化学方程式为_____________________________________。
(5)H是D的同分异构体,分子中含有酯基,有两个苯环且不直接相连,符合上述条件的结构有____________种,其中核磁共振氢谱图有6组峰,且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________(写出一种即可)。
(6)参照上述合成路线,以2-氯丙烷为原料,其它无机试剂和有机溶剂任选,设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
高三化学推断题中等难度题
苯是工业上常用的化工原料,可以用于合成安息香酸苄酯和高分子化合物G (部分反应条件略去),流程如下所示,请回答下列问题:
(1)A的化学名称是________,B中的官能团名称是________。
(2)E分子中最多可能有_____个碳原子共平面;G的结构简式为_________;
(3)C生成D的反应类型为___________。
(4)A生成E的化学方程式为_________________。
(5)H是D的同分异构体,分子中含有酯基,有两个苯环且不直接相连,符合上述条件的结构有_______种,其中核磁共振氢谱有6组峰,且面积比为3:2:2:2:2:1的同分异构体的结构简式为_______(写出一种即可)。
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苯是工业上常用的化工原料,可以用于合成安息香酸苄酯和高分子化合物G(部分反应条件略去),流程如下所示,请回答下列问题:
(1)C的化学名称是______,E分子中最多有______个原子共平面。
(2)C生成D的反应类型为______。
(3)A生成E的化学方程式为___________。
(4)CH2=CH-CH=CH2也可以反应生成高分子化合物,而且是合成橡胶的重要原料,下列橡胶中一定不能以其为主要初始原料获得的是_____。
①丁苯橡胶 ②顺丁橡胶 ③硅橡胶胶 ④乙丙橡胶 ⑤丁腈橡胶
(5)H是D的同分异构体,分子中含有酯基,有两个苯环且不直接相连,符合上述条件的结构有____种(不包括D),其中核磁共振氢谱图有6组峰,且面积比为3:2:2:2:2:l的同分异构体的结构简式为________(写出一种即可)。
(6)今照上述合成路线,以2-氯丙烷为原料,设计2-甲基-2-丙醇的最佳合成路线_____。
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苯是工业上常用的化工原料,可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G (部分反应条件略去),流程如下所示,请回答下列问题:
(1)C的化学名称是____________,B中的官能团名称是____________。
(2)E分子中最多有____________个原子共平面;G的结构简式为____________;
(3)C生成D的反应类型为____________。
(4)A生成E的化学方程式为_____________________________________。
(5)H是D的同分异构体,分子中含有酯基,有两个苯环且不直接相连,符合上述条件的结构有____________种,其中核磁共振氢谱图有6组峰,且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________(写出一种即可)。
(6)参照上述合成路线,以2-氯丙烷为原料,其它无机试剂和有机溶剂任选,设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
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苯是工业上常用的化工原料,可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G (部分反应条件略去),流程如下所示,请回答下列问题:
(1)C的化学名称是____________,B中的官能团名称是____________。
(2)E分子中最多有____________个原子共平面;G的结构简式为____________;
(3)C生成D的反应类型为____________。
(4)A生成E的化学方程式为_____________________________________。
(5)H是D的同分异构体,分子中含有酯基,有两个苯环且不直接相连,符合上述条件的结构有____________种,其中核磁共振氢谱图有6组峰,且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________(写出一种即可)。
(6)参照上述合成路线,以2-氯丙烷为原料,其它无机试剂和有机溶剂任选,设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
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苯是工业上常用的化工原料,可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G (部分反应条件略去),流程如下所示,请回答下列问题:
(1)C的化学名称是____________,B中的官能团名称是____________。
(2)E分子中最多有____________个原子共平面;G的结构简式为____________;
(3)C生成D的反应类型为____________。
(4)A生成E的化学方程式为_____________________________________。
(5)H是D的同分异构体,分子中含有酯基,有两个苯环且不直接相连,符合上述条件的结构有____________种,其中核磁共振氢谱图有6组峰,且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________(写出一种即可)。
(6)参照上述合成路线,以2-氯丙烷为原料,其它无机试剂和有机溶剂任选,设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
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① | ② | ③ | ④ | ⑤ | ⑥ | ⑦ | |
I | 加成 | 水解 | 还原 | 取代 | 还原 | 氧化 | 加聚 |
Ⅱ | 加成 | 消去 | 还原 | 加成 | 氧化 | 还原 | 缩聚 |
Ⅲ | 取代 | 水解 | 氧化 | 加成 | 氧化 | 还原 | 缩聚 |
Ⅳ | 取代 | 消去 | 氧化 | 取代 | 还原 | 氧化 | 加聚 |
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G是功能高分子材料。以甲苯为原料合成G的一种流程如下(部分条件和产物略去)。
回答下列问题:
(1)W中官能团名称是_______;反应II的试剂和条件是___________。
(2)反应I的类型是______;Z的名称是_______。
(3)写出F→G的化学方程式:_______________________。
(4)T是E的同分异构体,T的苯环上有3个互不相同的取代基,T的结构有___种。
(5)W分子中最多有__个原子共平面。
(6)以乙醇为原料,经过三步合成正丁醇。参照上述流程图设计合成路线___________。
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化合物M是一种常用的液晶材料。以苯的同系物A、G为原料合成M的一种路线(部分反应条件略去)如下:
已知:+, 回答下列问题:
(1)M的结构简式为________ ,A的名称为___________。
(2)D中官能团的名称是________
(3)②的反应类型是_________,⑥的反应类型是___________。
(4)⑤的化学方程式为_______________。
(5)满足以下条件的B的同分异构体有_______________种(不考虑立体异构)。
①能与氯化铁溶液发生显色反应;②苯环上只有两个取代基;③除苯环以外没有其它环状结构
(6)参照上述合成路线,设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备的合成路线:_______________
[示例:]
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化合物M是一种常用的液晶材料。以苯的同系物A、G为原料合成M的一种路线(部分反应条件略去)如下:
已知:+H—C≡C—H→+HI
回答下列问题:
(1)M的结构简式为________ ,A的名称为___________。
(2)D中官能团的名称是________。
(3)②的反应类型是_________,⑥的反应类型是___________。
(4)⑤的化学方程式为_______________。
(5)满足以下条件的B的同分异构体有_______________种(不考虑立体异构)。
①能与氯化铁溶液发生显色反应;②苯环上只有两个取代基;③除苯环以外没有其它环状结构
(6)参照上述合成路线,设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备的合成路线:_______________[示例:CH3CH2OH CH2=CH2 BrCH2CH2Br]
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物质A是基本有机化工原料,由A制备高分子树脂(M)和苯佐卡因(一种常用的局部麻醉剂)的合成路线(部分反应条件略去)如下所示:
已知:①A是苯的同系物,在相同条件下,其蒸气相对于氢气的密度为46;B可以发生银镜反应。
②R-CHO+R’CH2CHO。
③苯环上连有甲基时,再引入其他基团主要进入甲基的邻位或对位;苯环上连有羧基时,再引入其他基团主要进入羧基的间位。
回答下列问题:
(1)C中含氧官能团的名称是____________,⑦的反应类型是___________,
A分子中最多有________个原子共平面, E的结构简式为_____________。
(2)写出反应⑥生成高分子树脂M的化学方程式_________________。
(3)在上述流程中“C→D”在M的合成过程中作用是_________________。
(4)满足下列条件的苯佐卡因的同分异构体共有______________(不考虑立体异构)种。
①苯环上只含有两个对位取代基,其中一个为—NH2;②含有酯基
(5)化合物有较好的阻燃性,请参照流程及有关信息,写出以甲苯为主要原料制备该阻燃剂的合成路线流程图______________。
提示:①无机试剂任选;②合成路线流程图示例
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